每經(jīng)AI快訊，有投資者在投資者互動(dòng)平臺(tái)提問：請(qǐng)老師普及一下光刻膠缺陷檢測(cè)分析儀器的難度？這個(gè)比光刻機(jī)，刻蝕機(jī)還難嗎？

南大光電（300346.SZ）11月25日在投資者互動(dòng)平臺(tái)表示，缺陷檢測(cè)分析儀器主要應(yīng)用于28nm以下工藝節(jié)點(diǎn)的光刻膠檢測(cè)，目前國(guó)內(nèi)仍在研制中，尚無可商用的設(shè)備。

(記者 蔡鼎)

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