每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司吉華股份（831708）新增專利信息，專利權(quán)人為吉華股份，發(fā)明人是黃文德、彭炎華、嚴(yán)永光、王建華、黎立虎、陸遠(yuǎn)波。專利授權(quán)日為2023年1月31日，專利名稱為“基坑冠梁位移監(jiān)測(cè)裝置及其標(biāo)靶結(jié)構(gòu)”，專利類型為中國(guó)實(shí)用新型專利，專利申請(qǐng)?zhí)枮镃N202222161809.5。

該專利摘要顯示：本實(shí)用新型公開一種基坑冠梁位移監(jiān)測(cè)裝置及其標(biāo)靶結(jié)構(gòu)，監(jiān)測(cè)裝置包括設(shè)置于第一基坑邊的至少一個(gè)標(biāo)靶；設(shè)置于第二基坑邊的至少一個(gè)測(cè)距模塊，測(cè)距模塊用于獲取至少一個(gè)標(biāo)靶的位置采樣參數(shù)；控制模塊，用于根據(jù)采樣控制指令控制測(cè)距模塊運(yùn)行，并接收位置采樣參數(shù)，將位置采樣參數(shù)轉(zhuǎn)換為冠梁位移參數(shù)；上位機(jī)，用于對(duì)控制模塊下發(fā)采樣控制指令，接收并顯示控制模塊上傳的位置采樣參數(shù)和/或冠梁位移參數(shù)。本實(shí)用新型設(shè)置至少一個(gè)標(biāo)靶和至少一個(gè)測(cè)距模塊，通過控制模塊控制測(cè)距模塊獲取至少一個(gè)標(biāo)靶的位置采樣參數(shù)，并將其轉(zhuǎn)換為冠梁位移參數(shù)，可實(shí)現(xiàn)基坑水平位移的實(shí)時(shí)測(cè)量，監(jiān)測(cè)精度高。

(記者 曾健輝)

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