每經(jīng)訊，據(jù)啟信寶，新三板創(chuàng)新層公司宇迪光學(xué)（831934）新增專利信息，專利權(quán)人為宇迪光學(xué)，發(fā)明人是冒建軍、冒晶晶。專利授權(quán)日為2024年6月21日，專利名稱為“一種流量可控式雙面研磨機(jī)及平面鏡加工設(shè)備”，專利類型為中國實(shí)用新型專利，專利申請(qǐng)?zhí)枮镃N202322599074.9。

該專利摘要顯示：本實(shí)用新型屬于平面鏡加工的技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種流量可控式雙面研磨機(jī)及平面鏡加工設(shè)備。所述雙面研磨機(jī)包括下研磨盤和上研磨盤，所述上研磨盤的上部周向上貫穿有若干個(gè)輸送管且其頂部通過輸送管連通有儲(chǔ)液盤，所述儲(chǔ)液盤內(nèi)部安裝有液位傳感器且其頂部扣合有蓋板，所述蓋板上開設(shè)有輸液孔并通過輸液孔貫穿連接有輸液管，所述輸液管通過輸液孔貫穿蓋板并延伸至儲(chǔ)液盤內(nèi)部且其端部通過儲(chǔ)液盤與輸送管連通設(shè)置，所述輸送管的端部貫穿上研磨盤且其出口與下研磨盤連通設(shè)置。本實(shí)用新型無需人工判斷輸送流量，解決了因人工判斷操作失誤而造成研磨液或磨削液溢出污染環(huán)境的問題，保證了平面鏡的打磨效果以及雙面研磨機(jī)的使用壽命。

(記者 曾健輝)

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